Skip to main content
Tagasi

ISO 14706:2014

Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Üldinfo

Kehtiv alates 25.07.2014
Tegevusala (ICS grupid)
71.040.40 Keemiline analüüs
Direktiivid või määrused
puuduvad

Standardi ajalugu

Staatus
Kuupäev
Tüüp
Nimetus
25.07.2014
Põhitekst
Põhitekst
ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 � 1010 atoms/cm2 to 1 � 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 � 108 atoms/cm2 to 5 � 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

Nõutud väljad on tähistatud *

*
*
*
PDF
169,14 € koos KM-ga
Paber
169,14 € koos KM-ga
Standardi monitooring