Tagasi

EVS-EN 62047-17:2015

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 17: Bulge test method for measuring mechanical properties of thin films

Üldinfo

Kehtiv alates 05.08.2015
Alusdokumendid
IEC 62047-17:2015; EN 62047-17:2015
Tegevusala (ICS grupid)
31.080.99 Muud pooljuhtseadised
Direktiivid või määrused
puuduvad

Standardi ajalugu

Staatus
Kuupäev
Tüüp
Nimetus
05.08.2015
Põhitekst
EVS-EN 62047-17:2015
IEC 62047-17:2015 specifies the method for performing bulge tests on the free-standing film that is bulged within a window. The specimen is fabricated with micro/nano structural film materials, including metal, ceramic and polymer films, for MEMS, micromachines and others. The thickness of the film is in the range of 0,1 μ to 10 μ, and the width of the rectangular and square membrane window and the diameter of the circular membrane range from 0,5 mm to 4 mm.
The tests are carried out at ambient temperature, by applying a uniformly-distributed pressure to the testing film specimen with bulging window. Elastic modulus and residual stress for the film materials can be determined with this method.

Nõutud väljad on tähistatud *

*
*
*
PDF
24,40 € koos KM-ga
Paber
24,40 € koos KM-ga
Sirvi standardit alates 2,44 € koos KM-ga
Standardi monitooring
Inglise (PDF 417 KB)

Seotud tooted

Põhitekst + muudatus

EVS-EN IEC 62031:2020+A11:2021

Üldtarbevalgustuse leedmoodulid. Ohutusnõuded
Uusim versioon Kehtiv alates 31.12.2021
Põhitekst

EVS-EN IEC 62031:2020

Üldtarbevalgustuse leedmoodulid. Ohutusnõuded
Kehtiv alates 02.04.2020
Põhitekst + muudatus

EVS-EN 62031:2008+A1:2013+A2:2015

Üldtarbevalgustuse valgusdioodmoodulid. Ohutusnõuded
Kehtetu alates 02.04.2020
Põhitekst

EVS-EN IEC 62384:2020

DC or AC supplied electronic controlgear for LED modules - Performance requirements
Uusim versioon Kehtiv alates 16.07.2020

Teised on ostnud veel

Põhitekst

EVS-EN 62047-16:2015

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films – Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
Uusim versioon Kehtiv alates 05.08.2015
Põhitekst

EVS-EN 62047-11:2013

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices -- Part 11: Test method for coefficients of linear thermal expansion of free-standing materials for micro-electromechanical systems
Uusim versioon Kehtiv alates 14.11.2013
Põhitekst

EVS-EN 62047-18:2013

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices -- Part 18: Bend testing methods of thin film materials
Uusim versioon Kehtiv alates 14.11.2013
Põhitekst

EVS-EN 62047-19:2013

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices -- Part 19: Electronic compasses
Uusim versioon Kehtiv alates 14.11.2013

Standardite lühendid

EVS Eesti standard
EN Euroopa standard (avaldatud Euroopa standardimisorganisatsioonide CEN või CENELEC poolt)
EN ISO Euroopa standardina avaldatud Rahvusvahelise Standardimisorganisatsiooni standard
ISO Rahvusvahelise Standardimisorganisatsiooni standard
IEC Rahvusvahelise Elektrotehnika Komisjoni standard
HD Euroopa Elektrotehnika Standardimiskomitee harmoneerimisdokument
   
EVS-EN Euroopa standard avaldatud Eesti standardina
EVS-EN ISO Euroopa standardina ülevõetud Rahvusvahelise Standardimisorganisatsiooni standard ja avaldatud Eesti standardina
EVS-EN ISO/IEC Euroopa standardina ülevõetud Rahvusvahelise Standardimisorganisatsiooni standard/Rahvusvahelise Elektrotehnika Komisjoni standard avaldatud Eesti standardina
EVS-IEC Rahvusvahelise Elektrotehnika Komisjoni standard avaldatud Eesti standardina
EVS-ISO Rahvusvaheline standard avaldatud Eesti standardina
   
A, AMD muudatus
+A standardi tekst ja muudatus
/A ainult muudatus
COR, AC parandus
+COR Standardi tekst ja parandus
NA rahvuslik lisa
+NA standardi tekst ja rahvuslik lisa
/NA ainult rahvuslik lisa
TS tehniline spetsifikatsioon
TR tehniline aruanne
CWA CENi või CENELECi töörühma kokkulepe
prEVS-EN (jne) standardi kavand
   
et standard on eesti keeles
en standard on inglise keeles
et-en standard on paralleeltekstina eesti-inglise keeles